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	Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns, 1968. <BB00299417> 便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns, 1968. <BB00299417> 便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No.	巻号	CL	所蔵館	配置場所	請求記号	資料ID	状態	返却予定日	予約
0001			院	院	608/R36	00006929459			0件
0002			外部保管庫	外保2	608/R36	00009548363			0件


No.	0001
巻号
CL
所蔵館	院
配置場所	院
請求記号	608/R36
資料ID	00006929459
状態
返却予定日
予約	0件

No.	0002
巻号
CL
所蔵館	外部保管庫
配置場所	外保2
請求記号	608/R36
資料ID	00009548363
状態
返却予定日
予約	0件

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目次・あらすじ

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書誌詳細

標題および責任表示	Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar / begründet von Eduard Reimer
版事項	3., erweiterte und neubearbeitete Aufl / von Karl Nastelski ... [et al.]
出版・頒布事項	Köln : C. Heymanns , 1968
形態事項	xxx, 2505 p. ; 24 cm
学情ID	BA19109439
本文言語コード	ドイツ語
著者標目リンク	Reimer, Eduard <AU00474012>
著者標目リンク	Karl, Nastelski <>

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